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Nanoscribe成立于2007年，是卡尔斯鲁厄理工学院(KIT)的衍生公司。Nanoscribe凭借其过硬的技术背景和市场敏锐度奠定了其市场优先领导地位，并以高标准来要求自己以满足客户的需求。Nanoscribe将在未来在基于双光子聚合技术的3D微纳加工系统基础上进一步扩大产品组合实现多样化，以满足不用客户群的需求。Nanoscribe作为一家纳米，微米和中尺度高精度结构增材制造**，一直致力于开发和生产和无掩模光刻系统，以及自研发的打印材料和特定应用不同解决方案。在全球顶端大学和创新科技企业的中，有超过2,500多名用户在使用我们突破性的3D微纳加工技术和定制应用解决方案。双光子聚合到底是什么技术？有什么特点？运用在哪些领域？上海德国双光子聚合微纳光刻
Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2双光子无掩模光刻系统的设计多功能性配合打印材料的多方面选择性，可以实现微机械元件的制作，例如用光敏聚合物，纳米颗粒复合物，或水凝胶打印的远程操控可移动微型机器人，并可以选择添加金属涂层。此外，微纳米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微机电系统（MEMS）。双光子灰度光刻技术可以一步实现真正具有出色形状精度的多级衍射光学元件（DOE），并且满足DOE纳米结构表面的横向和纵向分辨率达到亚微米量级。由于需要多次光刻，刻蚀和对准工艺，衍射光学元件（DOE）的传统制造耗时长且成本高。上海德国双光子聚合微纳光刻想要了解双光子聚合技术运用在哪些领域请咨询纳糯三维科技（上海）有限公司。
在当前科技快速发展的时代，各种新技术层出不穷。其中，双光子聚合技术以其独特的优势和应用前景，正在引起越来越多的关注。双光子聚合是物质在发生双光子吸收后所引发的光聚合过程，它有着更多的应用前景，包括快速3D打印、光子晶体形成、高精度光子器件制造等领域。双光子聚合技术的优势：1. 高精度和高分辨率：双光子聚合技术采用光子作为加工单位，具有超高的精度和分辨率。与传统的加工技术相比，双光子聚合技术可以制造出更加精细、复杂的结构，从而实现更高级别的光学器件和制造工艺。2. 快速和高效：双光子聚合技术可以在短时间内完成大量材料的加工和制备。由于其高精度和高分辨率的特点，使得制造过程更加快速和高效。这不仅缩短了产品的研发周期，还能满足工业化大规模生产的需求。3. 高度灵活性和可扩展性：双光子聚合技术具有高度灵活性和可扩展性，可以在不同材料和表面上应用。这种技术不仅可以用于玻璃、塑料等常见材料的加工，还可以应用于半导体、生物医学等领域。这意味着双光子聚合技术的应用领域非常多，可以为不同行业提供定制化的解决方案。
QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系统，用于快速原型制作和晶圆级批量生产，以充分挖掘3D微纳加工在科研和工业生产领域的潜力。该系统是基于双光子聚合技术（2PP）的专业激光直写系统，可为亚微米精度的2.5D和3D物体的微纳加工提供极高的设计自由度。QuantumXshape可实现在6英寸的晶圆片上进行高精度3D微纳加工。这种效率的提升对于晶圆级批量生产尤其重要，这对于科研和工业生产领域应用有着重大意义。总而言之，该系统拓宽了3D微纳加工在多个科研领域和工业行业应用的更多可能性（如生命科学、材料工程、微流体、微纳光学、微机械和微电子机械系统（MEMS）等）。全新QuantumXshape作为Nanoscribe工业级无掩膜光刻系统QuantumX产品系列的第二台设备，可实现在25cm²面积内打印任何结构，很大程度推动了生命科学，微流体，材料工程学中复杂应用的快速原型制作。Nanoscribe中国分公司-纳糯三维为您揭秘什么是飞秒激光双光子聚合纳米光刻。
Nanoscribe成立于2007年，是卡尔斯鲁厄理工学院(KIT)的衍生公司。Nanoscribe凭借其过硬的技术背景和市场敏锐度奠定了其市场优先领导地位，并以高标准来要求自己以满足客户的需求。Nanoscribe将在未来在基于双光子聚合技术的3D微纳加工系统基础上进一步扩大产品组合实现多样化，以满足不用客户群的需求。Nanoscribe作为一家纳米，微米和中尺度高精度结构增材制造**，一直致力于开发和生产和无掩模光刻系统，以及自研发的打印材料和特定应用不同解决方案。在全球顶端大学和创新科技企业的中，有超过2,500多名用户在使用我们突破性的3D微纳加工技术和定制应用解决方案。Nanoscribe双光子聚合技术具有高设计自由度和高精度。上海双光子聚合三维微纳米加工系统
你知道双光子聚合、飞秒激光加工、双光子显微成像区别在哪里吗？上海德国双光子聚合微纳光刻
作为全球头一台双光子灰度光刻激光直写系统，QuantumX可以打印出具有出色形状精度和光学质量表面的高精度微纳光学聚合物母版，可适用于批量生产的流水线工业程序，例如注塑，热压花和纳米压印等加工流程，从而拓展微纳加工工业领域的应用。2GL与这些批量生产流水线工业程序的结合得益于新技术的亚微米分辨率和灵活性的特点，同时缩短创新微纳光学器件（如衍射和折射光学器件）的整体制造时间。Nanoscribe的QuantumX打印系统非常适合DOE的制作。该系统的无掩模光刻解决方案可以满足衍射光学元件所需的横向和纵向高分辨率要求。基于双光子灰度光刻技术(2GL®)的QuantumX打印系统可以实现一气呵成的制作，即一步打印多级衍射光学元件，并以经济高效的方法将多达4,096层的设计加工成离散的或准连续的拓扑。上海德国双光子聚合微纳光刻
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