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Nanoscribe成立于2007年，是卡尔斯鲁厄理工学院(KIT)的衍生公司。Nanoscribe凭借其过硬的技术背景和市场敏锐度奠定了其市场优先领导地位，并以高标准来要求自己以满足客户的需求。Nanoscribe将在未来在基于双光子聚合技术的3D微纳加工系统基础上进一步扩大产品组合实现多样化，以满足不用客户群的需求。Nanoscribe作为一家纳米，微米和中尺度高精度结构增材制造**，一直致力于开发和生产和无掩模光刻系统，以及自研发的打印材料和特定应用不同解决方案。在全球顶端大学和创新科技企业的中，有超过2,500多名用户在使用我们突破性的3D微纳加工技术和定制应用解决方案。
双光子聚合技术是一种高精度、高效率的微纳加工技术，具有以下优势特点：高精度和高分辨率：双光子聚合技术可以实现亚微米甚至纳米级的分辨率，使得制造出的微纳结构更加精细。这是因为它利用双光子吸收过程，将激光束聚焦到非常小的体积内，从而实现了高精度的加工。三维加工能力：由于双光子聚合技术可以在聚合物体积内部进行光刻，因此可以实现复杂的三维结构制造，如微型光学元件、微流体芯片等。这一特点使得它在微纳制造领域具有广泛的应用前景。无需光掩膜：传统的光刻技术需要使用光掩膜进行图案转移，而双光子聚合技术可以直接通过计算机控制激光束的位置和强度来实现图案的制造，无需光掩膜。这不仅降低了制造成本，还缩短了制造周期。材料多样性：双光子聚合技术可以使用各种不同类型的光敏树脂作为加工材料，从而可以制造出各种不同性质和功能的微纳结构。这为微纳制造提供了更多的选择和灵活性。高效加工速度：双光子聚合技术具有较高的加工速度，可以在短时间内制造出复杂的三维结构。这使得它在工业生产中具有较高的效率和竞争力。易于控制和修改：双光子聚合的加工环境和参数易于控制，可以轻松修改得到所需的结构。
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